产品介绍

主要包括：铝钪靶、钪靶、镱靶、铽靶、镝靶、钆靶、金属镱蒸发材料等，产品纯度3N-4N5，靶材尺寸4英寸-12英寸。铝钪靶不同成分、尺寸、晶粒晶向满足客户的不同溅射需求，能够和客户一起开发特制的各种规格靶材。

应用领域

高性能滤波器、OLED显示背板、永磁体、磁致冷、核反应堆等领域。

产品介绍：

纯度：5N (99.999%)，6N(99.999%)

产品应用：

硅靶材广泛用于FPD和微电子领域。高纯硅靶是制作二极管、三极管、晶闸管和各种集成电路的重要半导体材料，也可用于制作太阳能光伏电池。

单晶硅靶材，2015年开始供应Skyworks, 用于制造苹果芯片。

基本信息：

纯度：3N(99.9%)

产品应用：

钌酸锶具有高电导率，高化学稳定性和热稳定性，被公认为是电极、异质结和超晶格的重要组成材料，并用以探索新型的氧化物电子学和自旋电子学器件。另外，在半导体领域，钌酸锶溅射靶材在微机电系统和薄膜晶体管的制造过程中起到了关键作用。

基本信息：

纯度：3N(99.9%)

产品应用：

铝钪合金是一种高性能铝合金，在强度、硬度、耐热性、耐腐蚀性等方面有明显提高。铝钪溅射靶材可有效用于芯片滤波器，航空航天，体育和电子行业。在应用于芯片滤波器部分时，与传统氮化铝靶材相比，铝钪靶材敏感度可高出10倍。

基本信息：

纯度：4N(99.99%), 5N (99.999%)

产品应用：

高纯铝靶材为半导体、平板显示器、太阳能电池等制造中的金属互连线的主要配套材料。高纯铝及铝合金是目前使用最为广泛的导电层薄膜材料之一。

简介：氧化物靶材是一种关键性的基材镀膜材料，用于大型液晶显示器、有机EL显示器、以及薄膜晶体管的氧化物半导体层，其结构向高密度、大尺寸、管状、异型、均匀方向发展，这些结构特点对靶材提出更高的要求。产品：ITO(In2O3-SnO2)靶材，氧化铌NbOx靶材，氮化硅(Si3N4)靶材，碳化硅(SiC)靶材，氮化镓(GaN)靶材，氧化钛(TiOx)靶材。

基本信息：

纯度：3N(99.95%)

产品应用：

PZT靶材拥有良好的压电、介电及热释电性能，在半导体MEMS领域、光电子学、微电子学、微电子机械系统和集成光学等领域得到广泛应用。

基本信息：

纯度：4N(99.99%)

产品应用：

铂金靶材可用于平板显示器、光盘只读存储器、薄膜涂层和光学信息存储等行业。高纯度的铂金和铂金合金靶材适用于PVD工艺，PVD铂金产品中最突出的商业应用是汽车的触媒转化器。我们提供铂金溅射靶材，用以支持市面上的真空镀膜技术及其他定制产品。

基本信息：

纯度：6N(99.9999%)

产品应用：

硅靶材广泛用于FPD和微电子领域。高纯硅靶是制作二极管、三极管、晶闸管和各种集成电路的重要半导体材料，也可用于制作太阳能光伏电池。

基本信息：

纯度：2N5(99.5%), 3N(99.9%), 3N5(99.95%)

产品应用：

铬拥有保护发动机部件的功能，延长发动机重要部件的使用寿命。铬靶广泛应用于电子产品、装饰涂料、工具模具、节能玻璃、TFT面板等行业。铬具有较高的抗腐蚀能力，这使得铬溅射靶材适用于制造抗腐蚀涂层。

特点：◆ 晶体形貌呈板状、形状圆滑，不易产生划痕；◆ 粒度分布范围窄，硬度高，磨削力强。

用途：半导体单晶硅片、水晶晶片的研磨抛光及手机金属外壳的抛光。

特点：◆ 颗粒形貌好；◆ 粒度分布范围窄，切削率高；◆ 光亮度好 。

用途：应用于铝材、铜材、不锈钢、石材、光学玻璃、金属漆面等的研磨抛光。

简介：抛光粉通常由氧化铈(VK-CE01)、氧化铝(VK-L30F)、氧化硅(VK-SP50F)、氧化铁、氧化锆(VK-R30F)、氧化铬等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化锆为7，氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。为了增加氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。对ZF或F系列的玻璃来说，因为本身硬度较小，而且材料本身的氟含量较高，因此因选用不含氟的抛光粉为好。

产品特点：

1、胶膜厚度可以做到3mm以上，UV、湿气双固化，可以提升生产效率；

2、通过24个循环的盐水测试，600小时气体腐蚀实验、800小时冷热冲击(-40℃，125℃)试验，样品表面无起泡、裂缝等不良现象；

3、本产品具有荧光特性可用于UV灯进行跟踪检验，满足ROHS要求。

简介：LOW CTE，高导热（3W，5W，5W+）半导体封装材料；用于各种先端半导体封装，车载半导体功率器件封装，太阳能发电逆变器封装等多种应用场景。

简介：MINILED封装作为目前阶段最具发展潜力的显示技术，设备和材料一直被美日韩掌控，虽然有国内的设备厂商开始了局部介入，但是还是存在着大规模量产的配套材料和工艺问题，迪吉英科针对MINI/MICRO/OLED开发的喷墨封装材料，采用阳离子环氧/有机硅树脂材料体系，克服了原有自由基丙烯酸材料体系的存储问题，应力问题，附着力更强，耐候性更好，是显示封装下一代工艺革新的关键性材料。

简介：通过IGBT半导体芯片封装，塑封粘接，固定称为芯片封装胶。目的：获得与基体结合牢固、粘接强度高和气密性都满足要求，且具有满足耐高低温、耐电气性能优良、对芯片稳定性等良好性能的芯片封装胶。广泛运用于IGBT半导体封装、芯片封装、各种芯片封装等

简介：硅微球的粒度分布宽窄可以自由控制，满足既要卡段粒径小又要频径大的高性能半导体封装要求。DY级配球硅适合在MUF,INFO,2.5D,3D等先进封装应用。

简介：

3D纳米压印使用

KER-4690A/B

UV加成反应，低收缩率

LENS粘接

KER-4410

KER-4440

高触变性能，耐高低温性

特征：

具有200℃高耐温性。

具有优秀的抗胶裂性能。

具有高稳定性。

用途：

用于 LED 封装。

特征：

具有 200℃高耐温性的苯基材料。

具有优秀的抗胶裂耐黄变性能。

具有高稳定性。低透湿透氧

用途：

用于 LED 封装。

特点：

·防止 LED 组件等镀银硫化。

·耐热性高，不容易变色，作为提高 LED 密封材料粘着性的底层涂料也有效果。

·含有溶剂，可作为薄膜涂抹。

·通过加水分解反应硬化。

用途:

·用于 LED 组件的保护镀银用的涂覆材料

·用于保护芯片、电容器等的银电极的涂覆材料

制造工艺：pc+pmmc板材+漫染渐变色+高压成型+双面高光淋涂+cnc+正面电镀AR/AF+贴合偏光片

特点：板材3D装饰镜片产品尺寸小高压成型比较容易，cnc加工难度系数高容易飞料，对cnc技术要求高，整个面为外观面，容易造成脏污和划伤。

简介：手机屏可识别的偏光薄膜（简称偏光膜），在1μm膜层中载有图形化排列的液晶分子组成的偏振图文。通过点亮手机屏幕照射薄膜，可观察到隐藏其中的图文信息，并且随着手机屏幕的旋转，图文发生阴阳切换。偏光膜的原理和制造方法与柔性显示器相似，制造壁垒高，技术特点鲜明，识别和使用方便。

简介：Film Patterned Retarder (FPR) 是偏光眼镜式3D显示所必须使用的相位延迟膜，曾在LG的3D电视中使用了较长一段时间。近年来，随着大尺寸3D电视的复兴和影院级LED-3D屏幕的兴起，FPR膜迎来了新的发展机遇。先幻高科凭借图形化光配向技术和精密涂布技术，实现了FPR膜的生产。先幻FPR膜具有串扰度低、尺寸准确、易贴合等优点偏光眼镜式3D显示用相位延迟膜，先幻凭借图形化光配向技术和精密涂布技术，实现了FPR膜的生产和商用。

该产品适于在LED屏幕表面实现3D效果。

产品特点：

1、能耐氢氧化钠、氢氟酸等强碱、强酸;2、剥胶简便，只需要浸泡专用清洗剂40分钟左右即可，不需要浸泡浓硫酸;3、应用温度范围-45°C~145°C，满足ROHS要求,

4、具有优异的附着力和抗老化性。

特点：

1. 耐腐蚀性强：不锈钢材质具有很好的耐腐蚀性能，因此不锈钢蚀印标牌不易被腐蚀。2. 耐高温性能好：不锈钢材质的熔点较高，可以承受高温环境而不变形。3. 耐候性强：不锈钢材质的表面采用特殊处理，可以经得住艳阳高照、风吹日晒、风雨侵袭等自然环境的侵蚀。4. 外观美观：不锈钢材质的表面精致平整，不会因为时间、人为等因素而使其外观出现瑕疵。

应用：

不锈钢蚀印标牌广泛应用于工业、商业、建筑等领域，其具体应用如下：1. 工业领域：不锈钢蚀印标牌通常用于机械、汽车、电子等领域的标识，由于其材质强度高、抗腐蚀性好，可以在极端的工业环境中使用。2. 商业领域：不锈钢蚀印标牌经常被应用于商业标志、店铺招牌、酒店客房门号牌等，不锈钢材质具有很高的档次感，可以为商业场所增色添彩。3. 建筑领域：在建筑领域，不锈钢蚀印标牌被常用作房屋门牌、电梯指示牌、楼宇名称标识等。

简介：产品由一个个单个的字符组成，一般没有凹陷或凸起形成 断差，厚度在0.1--0.3mm，由单个字符由正面保护膜组合在一起形成一个完整的整体。

特性:

1、浆料流平性较高，具有良好的印刷适印性；

2、在ITO-Film及ITO-Glass上附着性能优异;

3、蚀刻线宽/线距能达到30μm /30μm；

4、固化后膜层致密，表面硬度高、导电性优异。

特性：

激光蚀刻导电银浆柔韧性好、工作时间长、剪切强度大、粘接强度大，具有高纯度，高导电性，低模量的特点。

应用：

工作实效场，用于PET薄膜的粘接领域。

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本次展示科技成果一览

（持续更新中）

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